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首页 ? 产品中心 ? PVD镀膜设备 ? 磁控溅射镀膜系统
产品优势:
1、极限真空度,可达6.6X10-5Pa;
2、抽速快,抽气20-30分钟内可做实验;
3、真空室内外表面经过特殊电化学抛光处理,可持久保持洁净真空状态;
4、新型磁控溅射靶,提高靶材利用率及膜厚均匀性;
5、新型样品台,旋转、升降更顺畅,??榛峁股杓?;
6、新型质量流量控制器,高精度控制进气;
7、脂润滑分子泵抽速快,缩短抽气时间,并提供洁净真空环境;
8、 整机一体式设计结构,美观大方,并采用触摸屏集成自动控制方式,操作更集中、更便捷。
1、极限真空度:优于6.6X10-5Pa;
2、抽速:30分钟可达到6.6X10-4Pa;
3、磁控溅射靶:2英寸x3套;
4、直流溅射电源:500Wx2套;
5、射频溅射电源:500Wx1套;
6、样品尺寸:4英寸x1片;
7、样品温度:600℃;
8、脂润滑分子泵:1套;
9、无油涡旋干泵:1套;
10、自动控制系统:1套;
11、冷却水路系统:1套。
公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
地址:沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话:024-23826899、024-23826855
售后电话:024-23826838
传真:024-23826828
邮箱:sales@sky.ac.cn
网址:www.webinar-games.com
开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号:2100 1394 6010 5958 1266
纳税号:912101 0041 0581 2660
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